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发表于 2004-10-21 13:45 |只看该作者 |倒序浏览

医药厂房洁净技术发展现状及对策

& H9 f5 Z# T" ?; L+ {6 p

自从约30年前,第一批洁净室用于制药医疗以来,洁净室技术百花齐放,洁净生产环境五彩缤纷。洁净室技术的典型应用始于制药、医疗、化工、精密机械制造、光学、微电子,当今洁净室已改头换面,并延伸应用到越来越多新兴的工业部门,如微系统技术、生物技术、食品、化妆品等领域也逐渐开始应用各种级别的洁净室。

6 H p0 v6 ~3 I

近年来我国医药行业蓬勃发展;GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是当今国际制药行业公认的药品生产和质量管理的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。药品生产企业的GMP认证为净化安装工程公司创造了商机!

9 {# T' M& l) U. l# [

医药厂房洁净室系统组成

8 K: T/ Y. s+ m) ~4 [- W! b+ Q. d
. j4 U$ b( b2 ]5 w; y: M& s1 _ 0 G q! n+ ~- ^5 W5 M% m. j0 `* ^2 M6 r! `9 o1 B% J) X& e+ C9 f9 ^ [; X9 \% {' V" R1 a) D: v1 S3 I# R- b( \& [5 G! W) {0 B3 r$ M" I' G" J/ v" D/ \% E2 m8 U* }* i1 y h. {5 Y: i3 Z3 {: p/ Y" {" {; q* X$ E( }; P, K) f- u9 ]. Q0 ] G% v9 V/ F5 {8 S) |' j' T% X) S' {0 ?, U8 g* f/ V o9 Q$ u* a6 o1 C; W( I* D9 Z% g* s% M' N( {! t' V$ Z+ [ ? q2 l* n# o5 k% p3 U7 ]! S7 _3 z5 E9 k& r0 F5 b( v2 y% e% l5 `$ [. w2 ?# {4 Y/ m; _$ j$ D5 Z% Y8 P. `. G5 E: l# n6 U2 x7 o* a8 B3 L+ X2 c7 e# T8 N! G7 l. o+ @9 f* b8 {" n# }" W9 O9 a& E' _( D( i+ W, i; j6 G
7 r8 o. ~/ L b7 S* P) g# X* J- K+ k

* a5 W! I2 U1 P1 j

建筑结构(室内装修含彩钢板围护、自流坪地面等)

8 z% C& b7 q) Z

% H8 U$ b* r7 a$ M, X. [; ]( R: H: S3 t

净化空调系统

! k0 \4 C- w$ p5 b4 j; V

% `$ e* M7 W/ K4 ?, [3 D; V

排风除尘系统

2 A; E- @* S3 Q% `9 h

6 T6 R+ Q3 C) ]" g

公用动力系统

+ h3 g/ `5 _2 G) X

5 }: j3 y0 [! ]9 q" @

制药工艺设备及工艺管道系统

; O8 S; X4 d" r- Q

! q. |3 }% F# A2 ?7 K) W- m& ~

电气照明系统

; z: } ~7 @8 Y' ?6 [

) s/ H6 A- V2 r& _( J

通信消防安全设施系统

2 ^5 L& X2 m) Q/ c, e. O

& _( M6 V- {4 Z

环境控制设施系统

& Z2 j8 R& [6 |- i# c) s

关键技术——污染控制技术(医药洁净技术的永恒主题)

4 D5 }8 T4 u. b; L% V' j% P# \: _

医药厂房工程洁净室生产环境大多均为传统洁净室(conventional cleanroom)与模块式洁净室系统(modular cleanroom system)、洁净工作台和洁净柜 (clean work benches and clean cabins)及微环境技术(mini-environment technology)三种形式结合较少。

& l+ X/ A2 w7 g9 J$ ]7 Y4 A& S

由于医药厂房工程洁净室的洁净度等级要求不是很高,多数为ISO Class 7~ISO Class8级(换气次数平均在20~30次/h,主要控制粒径为≥5μm粒子),ISO Class5级的比例很少,对静电、微振控制要求不高,所以难免有人会认为药厂洁净室施工难度不大,其实不然。 4 E' c' X0 q, o" m表二A洁净室及洁净区空气中悬浮粒子洁净度等级

% S4 l! |. g# b% B9 i
% {$ o' f: j0 T1 @( T% D; P @& C% T, Y; M$ P4 z8 a0 g& M+ _7 L( d/ T8 @$ H) f! f' p2 M3 x' ~! x$ m- w. o% e4 C3 N. i. D+ ^2 G& r9 H/ n0 T' I1 ~( W# q2 D& e; L) l( ? d/ Q" R$ Z5 c1 P; ?4 {8 o0 a: w! U/ V2 ?- G7 [/ l4 z. v5 g+ Z+ ^1 E) ?3 Q' I# o8 z3 j2 W% t" l) }$ s3 @/ D5 I" _* }6 l- J, S H$ v: \; Q2 r' B. n* a) k" l# E8 y4 N. v( p# `5 y) i" c2 q; G* S% a3 X2 g3 X+ a# J: Z$ F0 S9 V" P7 ]$ b+ L3 H( H6 G* i+ B' }* B2 C9 U" {4 r" C& }6 b! J3 X d! w0 U# K( e- b9 l3 G1 y7 m+ Q& i" _; p- ?, G/ }1 ^1 o8 ]; r* R/ Q- A6 j: f z5 i5 U; B$ T/ [5 q* k9 I3 b% H D. T2 C2 r( C F, r% G4 i- o) i; [/ ?5 V; {- {9 Q* L; Y; `/ b- E, w( F6 i2 [8 c( D' b0 R$ `2 {+ b4 i, h. U" q/ J2 x* z; v6 J9 g+ p+ {% t9 r; F3 e) r5 d8 z- A* f% O% o) G9 i# a, h8 B# d( _7 k3 S8 v4 S# @: v- B- `5 D5 Y" ]0 r h! c2 c" y* s' Z# ]9 U4 h; f i0 E( F" n% _7 t# @. u9 O6 b: o$ P6 h$ K- k8 C' y/ ]" e' i# z" S C8 M8 `. M. `5 h- Q, Q* N5 E$ c/ K" U: {0 S6 T" C" L( L+ |% o( z E, _! {; |# y9 [" Y# ]; w7 ~( E0 k; ~$ b+ t, E+ R1 R, F" x3 j) j1 i/ _" J# F2 x" j4 W+ T7 X4 L v5 X8 W4 D$ `6 q7 T3 Z# s; @- }2 p6 ]2 p$ _# x" G- k+ j0 ?! D) ^% `' |: V7 ~! O" B. i) C& F1 ?1 C, p: v) g+ }) _' k% r( g0 I9 S, D4 ~( Y! D$ a! l. M* P- u0 | ]9 U/ }% C$ D, a$ `* A- t$ X& o" O0 E, \& q7 j2 w$ t1 }$ a0 J2 E) i# D- J* Q& h- f& p& \( c0 D/ `, G9 R$ h# Q7 g9 s/ D9 u3 U, z' |6 {* g$ g/ M' F$ e I3 i& U3 q0 i' N6 u" L o* s [( E% j1 z: i' }- ~6 H- J1 Q& \( K V3 z' r/ X* }% S9 Y0 O8 v6 k* H" a1 y% i6 t5 }% J3 u4 Z+ t/ Z& M' \2 Y% o1 U7 p4 m9 Q+ {8 h( k+ T' g0 q3 w6 z/ A1 p# v! B& M6 r$ L1 J9 d* P1 h# }. t( V/ a% K o& [; C% X0 A1 P/ I* o6 L( O$ K( k' f9 @/ K' a+ N, |: |, p$ z* U" V; p* N9 O& R7 z0 `( p2 ^. p6 n4 w! B0 n2 F1 d: Z: m7 c4 |4 y, V' C( \! f+ ]' s/ V8 S7 ?' j% }4 D0 v& @1 I% Z' s: T: T/ Y: \ s. a7 G& ?7 {4 U/ `7 Y5 R0 G, g8 R) f4 t" [. |! Y. g$ F. ~: o1 Q; I% r) W, V% U1 T8 ^/ ?, N. A( _& ~) R' y" L8 |% q$ j, J% S* B# G+ G8 P# P& R3 x% w3 M, x' T7 h" o* I3 h! V7 {% G* {, w- w+ a$ w" x+ o5 P) Y- u1 l1 z! }% o3 Y( E4 s) B$ \0 k4 g! m. ?, ]; k8 y) \1 U: i x4 I
2 A' Y, G# P: W& x

空气洁净度等级(N)

3 R/ M' P; w, l5 {

大于或等于表中粒径的最大浓度限值(pc/m3

+ u# t, e* G3 a8 ^6 u+ V1 K* a T5 h

0.1μm

% ~3 S Z2 K+ I6 k1 I/ j9 e* I ^

0.2μm

% L B ]1 o* [2 M* w! A8 G; n

0.3μm

% q2 c# X; n9 j* x$ T( v7 X6 \

0.5μm

$ N9 [7 O( b' I; l1 ~

1μm

" G& L" Q; \8 B) d, T

5μm

. N6 }" i) i+ M/ H

ISO Class 1

, D7 |0 }- A1 H( e: |

10

7 f z3 }5 B9 m& o1 l

2

: r) r ?! O) s9 J& o

 

6 V# Y' G- h: D( P

 

^7 o+ H0 m+ v* `, \

 

( x1 o s7 t4 \, A0 a

 

- ]% |8 }( Q ^

ISO Class 2

* @1 K( E o% H) i6 i3 }+ n6 w* z

100

: ?- _6 z( I( g ~2 w

24

% z P% |* W. W0 [

10

# J \' t$ @% n/ X4 n

4

/ a# B% R; z, _, p4 h1 b

 

& }' _; M3 ]. f

 

1 u4 }$ X6 a9 n- }

ISO Class 3

9 E4 F. k6 U5 F1 T5 b- p4 }

1000

' W# N1 Z8 I r' g9 ]

237

. V R5 f% g2 ?

102

: H( }0 ^9 Q: g, S9 l; L$ }

35

4 s' R8 L( E n/ ^

8

* H+ C& d) m- D4 y& a+ u

 

- q$ K; d- H0 U1 A. A

ISO Class 4

- x+ U6 R! H h/ E/ O- O

10000

1 W- _2 W( {: g1 u J

2370

( E4 L% T4 s! r/ F5 d: c

1020

/ B- e2 C" c+ K$ j; a8 U" E

352

2 D/ Z0 P) r- b' b; ^! l

83

* P3 E- l3 ~. u; ?! a# @# a

 

# y/ Q; [8 S0 B; _3 ~: J2 M

ISO Class 5

# D/ E, P% f1 E8 B6 d3 |

100000

+ x. q9 M( R) L

23700

, s" W6 t8 m4 K8 J% m

10200

7 Y( s3 I$ @- q

3520

% g% C2 B: g) K+ `* M/ B

832

! i. C: P4 r! D q3 u; J. Q( P1 l5 O

29

2 R/ ~! D* G: w

ISO Class 6

+ y7 y* t5 m l, O* Q

1000000

& J# o) q& \* k9 x% C

237000

# ^' K c4 g* F

102000

8 x4 t6 L$ A& P) [9 T+ X

35200

; c( {, \3 y$ R& }% `0 _

8320

$ S j1 `# Y" J; \' P! c g% e5 O

293

- A( \" T7 X* p) ^

ISO Class 7

9 A( J% w0 M5 @) _

 

1 Y3 ? Z( A" n3 E( i3 L% Z1 V

 

# N. C# w, u, Y" i4 W3 E/ J

 

4 @2 Y3 p2 A; R( f/ b

352000

) v9 W0 p& X& v9 f

83200

9 R/ I2 O; u& n! i% v" O1 f0 L# M1 j9 n

2930

% d7 N; V" O& G+ }1 \0 e) j- _, K1 f

ISO Class 8

% w/ l4 @( [' c

 

1 t5 e% G1 g. _$ Q" n

 

& c6 r2 i, m+ G' d( f9 t! C" ?" | E7 q

 

; g+ h' g0 p. n! g E: W

3520000

. I+ q* s- `1 ^2 [, h. |

832000

- A! b3 j$ t" b; ~0 }: w& q6 g

29300

4 m1 k O* E) j# O

ISO Class 9

, A3 @5 g; \: y: ~- M7 G2 M

 

- T7 M* W: e: J$ G& Y( A t+ Z

 

2 o Y: v" N, I1 _8 `

 

2 e$ t- H, z) H2 u' z

35200000

& s8 R' c- w0 @4 N

8320000

# x! _. D, R" G: K p

293000

5 f. y. t) `, k

  表二B不同产业/产品的关键粒径

u1 I( X, |2 c, l! R7 ~
7 ^6 p4 i$ y3 M7 z* m% o \: p% P- {$ l3 V3 L8 x! O4 y8 q2 ?1 {3 w9 t9 x5 W' w w* B$ r7 A7 k7 e* P- K& |0 F/ _2 ~8 t/ q" v0 O. O, \; g/ R1 x6 c( r1 d+ c, M" y L8 ]* O1 H# @; W4 M9 [( d1 y+ {+ B3 _- X' z. X# p; Q& _: ]0 y- J) q! V$ e9 ^6 q7 j) T4 M: g6 Q e9 g( O4 d' C' h }4 h! `5 r. M3 E; k3 |- k& }2 r! N, v5 Z" b5 f$ U. q8 {# \; e2 d3 }: ]: Z* G t0 e n7 R; k2 i0 E4 c5 V8 Z8 K2 d8 ^% @( C$ B7 h1 n" `& I3 J' |/ l, f' ^& L( z: X6 B% W* L/ B5 c. X# \. y" C. s' v, a) F" g3 X3 W+ d. ]; r1 Q* w# I# |! }/ R, h7 K, o- a$ l& T) D' z6 S' n0 b* ~ Q* z* @- `2 p2 T/ [- k4 Y; N' ]' t4 ]* O+ N" W" G5 }6 |$ }6 m/ d# y) S1 y7 o5 y! E w* [3 [9 D& T. a& Z: Y) _9 W2 c! G K8 G/ N. [/ r2 Q" n. X7 I, a( u1 _3 C& C- G. G$ P- X& |$ M) a$ m. E* s! L: b/ c, N# D5 ^7 f4 H/ [
) Z$ }# j# G& z0 D

产业/产品

6 ?: C6 M9 z3 D+ `7 E8 G* g

关键粒径

; e0 e4 e3 M# N4 j, S6 I, J$ J$ P

精 密机 械

& }) m; p8 W5 h9 X

1~100μm

7 a8 c* [& V( F( @* w/ a1 @" O) K

半导体

7 ?5 I" k( Z4 [; W

5~50μm

3 `4 C0 ^* W0 k8 x! L; ^

移植

+ ^! {" P, I0 G) h

5~20μm

; b. q& z. @& y

涂漆抛光技术

- L/ \( D5 w: S9 g# |) L

5~10μm

5 s7 {/ \. d- z1 F) o( `8 y5 z+ {

制 药技 术

- G. j8 U/ ~, \' C9 M7 i% u

5~10μm

9 ]3 M% C4 p ~# G

微 型 继电器

3 W5 O5 k4 {! u* m3 \: b

0.5~25μm

, e& B! {' |: u+ ~7 t

微 系 统技术

2 c. N* }0 S7 x: r# m1 J

0.5~5μm

5 Y- q& \' v& Y3 b, C8 m5 ?

光 学部 件

9 W+ i8 T3 v' o1 {/ Q* [" r

0.3~20μm

" f( \3 V, s* f6 a3 B K- v9 o

微电子

8 f$ m* Z3 P' m" y6 r

0.03~0.5μm

& e- ~. \' g" Q

医药厂房洁净室关键技术主要在于控制尘埃和微生物,作为污染物质,微生物是医药厂房洁净室环境控制的重中之重。医药厂房洁净区的设备、管道内积聚的污染物质,可以直接污染药品,却毫不影响洁净度检测,所以我们说:GMP需要空气净化技术,而空气净化技术不代表GMP!洁净度等级不适用于表征悬浮粒子的物理性、化学性、放射性和生命性。不熟悉药品生产工艺和过程,不了解造成污染的原因和污染物质积聚的场所,不掌握清除污染物质的方法和评价标准,以为洁净度满足要求的洁净室就能生产出高质量药品是GMP认识上的一大误区。

2 l! Y% P' o7 w+ C! N2 i

经过本人对东北地区多家医药厂房(已投产)洁净区环境情况的调查了解,GMP技术改造医药厂房工程普遍存在以下两种情况:

0 ~$ m0 G& T+ F( \

(一)正由于存在主观认识上的误区,在污染控制过程中的洁净技术应用不利,最终出现了有的药厂投入巨资改造后,药品质量并未明显提高。

) B* h! e% T8 |: S

医药洁净生产厂房的设计、施工、厂房内设备设施的制造、安装,生产用原辅物料、包装材料质量、人净物净设施控制程序执行不利等都会影响产品质量。

6 K2 z5 z* F7 @7 }

本人经过分析认为:施工方面影响产品质量的原因是过程控制环节有问题,在安装施工过程中留有隐患,有如下具体表现:

4 ]9 Q, z4 j/ t, d& y2 U

①净化空调系统风道内壁不干净、连接不严密、漏风率过大;

8 _" \1 Q9 v8 r! \% s( z

②彩钢板围护结构不严密,洁净室与技术夹层(吊顶)的密封措施不当、密闭门不密闭;

( X( X) @: R" {

③装饰型材及工艺管线在洁净室形成了死角、积尘;

# _- R. i3 ~, ?! ^3 Q! A

④个别位置未按照设计要求施工,无法满足相关要求规定;

/ Q3 a; S H* x8 X

⑤所用密封胶质量不过关、易脱落、变质;

/ J- i( d/ P5 h0 \9 e9 i- @

⑥回、排风彩钢板夹道相通,粉尘从排风到进入回风道;5 ?: s0 U. g( s( Z6 b   ⑦工艺纯化水、注射水等不锈钢卫生管道焊接时内壁焊缝未成型; " Q9 k; c" I2 O1 A) N) N; Z  ⑧风道止回阀动作失灵,空气倒灌造成污染;% k5 P. x& I- S   ⑨排水系统安装质量不过关、管架、附件易积尘;) C8 k" \1 a9 v- W) r- u   ⑩洁净室压差整定不合格,未能满足生产工艺要求。 " j( R+ C) r8 F" p/ U4 f( Q, }  所以,针对每个专业安装工程公司,洁净室工程施工无论洁净度的高还是低,都必须为药厂作好工程部分对污染源进入前的过程控制。

; v( c! k& r: p8 |8 h% t ?

(二)大多数药厂洁净室HVAC系统节能效果差,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

; h. s5 k2 K( E5 n, ]; j8 K1 o" {

比如有些药厂净化车间在空态或静态测试洁净度时,勉强合格,在动态测试(生产)条件下,洁净度不理想;所以不得不把空调机组变频调速设置为Max工况(如此换气次数即达到相对最大值),以使室内洁净度达到要求。换气次数的增加势必会导致能耗加大,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

) e: o, g- `+ {7 H4 \" A

有的药厂投资人为节约初投资而擅自降低设计要求的条件,购置价格相对低廉的设备如冷水机组、水泵、风机和药机,这些看似便宜的设备效率低,悄悄的把能量白白消耗掉,使投资人得不偿失。

* R! D3 H6 N" E1 f y9 _5 b, f

有些工艺设备运行时排风量波动大,而没有采用变风量排风机来实现节能;更有较多排风废热未被回收。

3 A% h% Z4 }! V1 l1 G$ i

市场状况及国家产业政策方向

0 G" ^7 g3 R7 U3 b$ d; r( j

  近年来我国医药行业蓬勃发展,2002年销售产值为2300亿元,每年为洁净室技术提供约45亿元的市场份额;药品生产企业的GMP认证为“洁净技术”创造了30亿元的商机;创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。医药和医疗卫生已成为洁净室市场的热点。

& H& o3 |! ]9 C; B( d7 N8 y' {$ T. y

GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是根据《中华人民共和国药品管理法》的规定而制定,是药品生产质量的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,《药品生产质量管理规范》的要求是强制性的。对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。

0 @+ k8 k1 B6 h! \

说到底GMP就是对生产全过程的污染控制,从而确保生产的每一支针、每一颗药都安全有效,质量万无一失。

0 ^# D% }, T6 d1 j' e8 N P( _& v: k

全国现有6731家重新换取《药品生产企业许可证》的企业,除去药品用胶囊、医用氧气、中药饮片、体内外诊断试剂、药物辅料等剂型的生产企业暂未列入GMP认证范围,已列入GMP认证范围的药品生产企业共5146家。

+ j# _$ p( D h- R$ d! T

国家药品监督管理局要求原料药和制剂生产在2004年6月30日前必须达到GMP要求,尚有3000家左右的药品生产企业需要全部或部分通过GMP认证,医药厂房需要进行技术改造(或新建)以使洁净室生产环境满足GMP认证的要求,将需要300亿元人民币的投入。近两年来,是技术改造投资高峰,每年为洁净室技术提供了30亿元人民币的市场份额。

' r8 s- y$ A# ~5 p8 u

“十五”期间全国将投入600亿元,创建8个大型医药产业园区:

8 A2 s) ^5 Z1 g, W

· 上海张江“医药研发基地”

& p0 w6 C3 r, [, n& n

· 杭州余杭“生物医药产业基地”

7 f, S4 D+ q0 y. l, w, ^

· 无锡中华生命谷

' ~" X, M/ N7 E# z6 V0 [

· 湖北葛店“中华药谷”

4 n7 V. r; B+ r( Q" E

· 天津“现代中药产业园”

" K/ v/ \8 s1 G7 y1 S" I: x5 Q' U

· 海南岛“海口药谷”

3 `6 }, C2 `. ^4 p3 r# p

· 哈尔滨“北方药都——哈药工业园”

" `9 P3 _. J+ {6 W+ G: y

· 北京生物医药创新基地——“一城”、“一园”、“一谷”、“一带”

+ m' n) W2 Z3 e: F4 [

  创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。

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