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发表于 2004-10-21 13:45 |只看该作者 |倒序浏览

医药厂房洁净技术发展现状及对策

; i* |% z+ V5 h( d$ T H0 g

自从约30年前,第一批洁净室用于制药医疗以来,洁净室技术百花齐放,洁净生产环境五彩缤纷。洁净室技术的典型应用始于制药、医疗、化工、精密机械制造、光学、微电子,当今洁净室已改头换面,并延伸应用到越来越多新兴的工业部门,如微系统技术、生物技术、食品、化妆品等领域也逐渐开始应用各种级别的洁净室。

" M4 Q2 T u. K( J& ? r

近年来我国医药行业蓬勃发展;GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是当今国际制药行业公认的药品生产和质量管理的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。药品生产企业的GMP认证为净化安装工程公司创造了商机!

& E/ P* m8 Y# `+ l- i% a5 x) u

医药厂房洁净室系统组成

5 D4 e( G+ _0 S9 E/ C# w
, |8 D, L9 S# E L + A- o8 |, p' W1 A" }3 L9 R8 z/ i5 K; j" p- S* W- [3 K& Q D( B. m ?8 ]/ M7 R9 X# Y1 C* r s/ ]7 p {: Y2 v' t/ N( V( Q% q0 }8 p. X7 c- L% G9 d. O* E7 p/ _) [* O+ I1 w1 s$ }4 j' O1 S/ Q% s* A3 r( s! V$ v: W' |0 }: l; X- ]; t! a. d: F$ t7 C+ ?$ _7 A ~$ X. |$ R: V1 B. C6 ^1 V/ A- l+ N6 [8 M& k7 ]) q' {5 t/ z( ^' a4 [! P4 F* t6 ^, T9 ^0 q6 q, z- C0 {# g+ X0 g' g& o) i$ ^: R! T* p7 z p: u" i- P8 Z' n1 x; \! x8 ~% D3 x' P+ ~ T t! J9 c4 n( V, B" Q( f9 v. y' l2 p: ]& u" a7 I8 w, ?* U I! X4 @& H' O# ~* T* d4 o. v. L3 K- g- m7 h& I7 q/ ]( R6 r" C7 F( S5 g7 M2 `! v m k5 M9 I7 z( L: N& q7 f- \" S: V$ a
" X" w6 ~2 Z. z, s4 k' B* d7 }) m

8 V( c, o% m+ }( m f2 W1 ^

建筑结构(室内装修含彩钢板围护、自流坪地面等)

) G$ z; z% x \1 A7 L' X. Q8 t

+ w1 r l; W) i( y! n' U/ {: v

净化空调系统

( S: n" ?, A- x# ~

6 ~8 C c; P4 N, X4 }. K. Q

排风除尘系统

0 i8 \5 O8 l1 X. \2 w9 ?, N

3 n. M! X! t7 O' X: I# O! d

公用动力系统

3 Y. B4 u* @: \' N* i

, A9 T3 G1 s' F/ X8 r4 u# \

制药工艺设备及工艺管道系统

4 E0 \4 U$ N( F# w! s5 d

' @3 C0 |: ]3 y2 \

电气照明系统

) K6 b0 c7 n5 {3 z/ c

! N% W n+ `' O' s+ r

通信消防安全设施系统

! O; E) R" G) o) L; _0 W

8 W! f' ~# `6 K; H# m) }

环境控制设施系统

# \, F; z- r8 g) g

关键技术——污染控制技术(医药洁净技术的永恒主题)

! W, R7 W9 N: f) V0 D- Y

医药厂房工程洁净室生产环境大多均为传统洁净室(conventional cleanroom)与模块式洁净室系统(modular cleanroom system)、洁净工作台和洁净柜 (clean work benches and clean cabins)及微环境技术(mini-environment technology)三种形式结合较少。

8 t6 h) Q3 m- {

由于医药厂房工程洁净室的洁净度等级要求不是很高,多数为ISO Class 7~ISO Class8级(换气次数平均在20~30次/h,主要控制粒径为≥5μm粒子),ISO Class5级的比例很少,对静电、微振控制要求不高,所以难免有人会认为药厂洁净室施工难度不大,其实不然。 ! k8 M! ]/ W: `+ x( \ }9 h表二A洁净室及洁净区空气中悬浮粒子洁净度等级

# q5 C- K1 F3 I7 R- h9 \7 y( l
' Z" X4 n/ t0 p5 O2 C. a" W! w1 ]2 o: S6 m: I: E$ a" |" |8 x% N. T' [3 j# h& E- q6 c! ~9 r8 \5 h7 Y; [) b* c+ ~. c! H" z; _* W& \& t* ^9 Q, l8 b7 U$ N- p% O9 M0 e9 h d! S; I! O- o! b8 ` v" v2 U2 d8 C; i" u! H& H1 t1 K; i- { j- t4 z c5 ]) Z2 W L/ a W& n9 O6 b3 g; ]. L4 b% Q, s3 H5 x4 f k# G' I" J- M4 x: D9 r0 L) z1 i; I+ M% r' o2 l0 z( X: I4 m4 @( v; \, Y( u/ k8 B" m8 d% F' F/ h/ }) U+ C( A7 U4 L$ r k4 o+ w E: {$ \* O- X* U+ J" E E6 b4 ]% h ^ n6 o* T- r b2 \4 V6 c4 m ]- D5 i H7 a8 {5 H3 [; ]) {; k( X3 N$ E: o5 w0 V+ F J ^7 U5 w6 X6 F# \6 P: @% h' l+ ~8 k0 A2 P6 b0 E7 G" H# y0 Z! b+ B. Q5 W: U+ v# W, i; D; M1 R2 R" t' {6 ?- v V2 y4 c' _- G8 s4 @3 R! K% p, I' l2 B( `( r/ X# }2 l, K* r; |- ]: M) i: \& s8 f8 X7 w) m9 d, C, @+ p% {# ?2 Z! U) P8 M) c2 A8 q4 ]' `2 U2 e3 y9 g& X Q5 O( y2 p$ B+ X: _2 I9 Q& p6 Q( ~5 k) e3 @, U3 d% L0 y9 U) n2 Z/ Z6 `: Z, `$ C& `& l( q6 w, L- ^; Z. K) s2 ?! f: l( A" t, o. T" e2 [# k7 q0 z! h$ v1 J* z' Y3 h( N) A1 }1 b- j, V& {: [, v! x8 }/ A& @0 H' Q* X2 T% \9 o* e d; P: |3 x6 q. d) K6 ]) J0 c) a4 A4 x6 O- o: [* L# B. e" M% L$ W r. k; |/ ?& b" d" K/ A9 C) j2 D6 ?% E9 M4 G: Y: ]/ ~. v, o1 T/ }; s Z8 p) Z4 n* o0 I+ O, }5 z9 k! h- A. u# U5 _5 `- |2 F# x$ U8 p' k; L8 g% J" J1 M6 @) z+ j! w G" w- l/ L" a4 r1 h; b8 G- @6 o, Q0 U& Z6 I8 r+ L; v* x2 n/ z# } e/ P7 B3 ?) ` i5 `9 [/ l% d* @ D Y. \2 a' }, s/ E8 N0 y0 j3 v B( `3 |6 E: C. D& T! H, N) ] `: c! h$ J8 s f( o+ K# j4 l# }5 I V8 l/ q+ K5 Z+ ^/ f3 m Q. e: X: Q; E6 O. g' Q& n' @! z9 v# n8 N. d1 O2 h" Z# S ^" t+ z7 E% M5 s+ t/ v1 | q: d6 Q* \, a5 l9 x. A- ?' G4 c; B9 j Q8 u7 A5 g5 z' B! |: a. z! v4 G* z0 X# B* D ?, p: v3 a: F: @/ \7 f+ P1 W0 R1 ~2 C9 Q) q4 {9 @( Y( y" u2 _3 W' z; {7 u8 R8 p2 `* Q) X* f/ E" h% m. @; t* d3 c( q# h3 V, C+ V, K, b! j3 t" K6 j6 U" S. C; D6 _+ m* a0 P7 m& J" c2 S, ?9 G7 T) I/ J6 N% }0 X, G$ ?2 I3 X6 u4 z9 p" l& @/ \$ o. e8 o0 H! A9 T7 c& y J! t" Z3 ?; t7 E" M* [. x9 C$ d% r% G2 F* b
^7 B/ j: R) C6 {

空气洁净度等级(N)

) l6 u' Z+ Q! ^. |, ~! y

大于或等于表中粒径的最大浓度限值(pc/m3

" a3 m/ T2 ?; I) f, R2 @3 D

0.1μm

) s& N6 |5 N' B3 n' L1 R8 a

0.2μm

3 ^6 N; a4 @3 t

0.3μm

7 T3 R) X4 b8 s* J1 y+ N

0.5μm

+ |) x; i8 ^: {* u5 T: k1 ]3 [5 Q

1μm

) }3 } S( F. y

5μm

, `4 g6 b: D+ o8 M) J

ISO Class 1

8 N4 h( q8 Y/ _# [

10

K& I/ z9 W. G

2

- {9 \- ~5 ]3 h# D! o* W v4 `

 

. Z' P/ X" m2 w

 

! ]2 E9 W! t9 q" T. \2 L

 

' \* ]% q! v ~; n0 D

 

' R0 k `2 z/ G6 G; c

ISO Class 2

: g1 @* u- q/ t$ v9 o

100

6 ~% r- z `$ P/ e0 D9 m3 j

24

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10

, A6 @/ s/ A; y: f3 L

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* n5 v* d0 J: ^

 

( l! M" g& F: M2 ^

 

/ o/ g: s( u! r

ISO Class 3

' a9 Q; O$ Z5 I* l$ }

1000

; v* C, A8 l7 i- {

237

+ o7 D) [+ s) P) v4 y

102

# v& O2 g8 n5 Q/ d

35

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8

* [( d k# A( |$ @

 

, A/ l. M) K& m6 ~( ]& ~! ~* F3 @. S' x

ISO Class 4

; ~, g9 [, E0 g7 y! D1 O# `9 Z

10000

) k1 \2 `0 l/ d. y, ?5 w

2370

9 q9 J# I0 a( O& D5 _. ?/ s

1020

* d2 Z' O1 ]2 M7 U, U3 T- Y7 ^

352

* j2 T8 `7 C! f, ^6 E' q( ~: X& ?

83

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7 U# \6 y" D0 S! t; l

ISO Class 5

8 v% \4 @- h$ [/ T0 U3 x4 n

100000

2 G" w& R6 V8 |5 h6 C6 `" a

23700

! l6 }" }0 y& d1 t F( g" u

10200

1 D5 y. K5 ]' b$ p9 N2 O4 s7 P

3520

, ]5 k: d" ^; ~1 k; n

832

* V5 O9 C% ^( O5 i, T& S+ r

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ISO Class 6

, r0 a) X4 g) y# N& B

1000000

" K) q) i+ [/ p9 S( d

237000

. L# w4 ^3 T7 O6 H' t

102000

# s3 k8 k( ^) F9 b

35200

' l! Z4 \3 h6 u: Z

8320

* ^; I' @' o: h$ ~9 }( L) q* z

293

+ V7 X- Y8 `4 t7 m+ G+ h: ]

ISO Class 7

/ J" }% s) S! \2 l8 q+ ~: Q! a$ X5 s

 

) K Z5 G$ L( ~1 ^* N- b$ b) m

 

6 b& y# B) N- a/ S. Y

 

/ ^ t- G3 h7 _8 S

352000

9 \% i; `$ `' w+ ~% J

83200

x1 r: T6 f7 Q, m, @, }; Y

2930

& w5 e$ @. P. S# i6 U

ISO Class 8

( @+ l5 R) @: ~2 R+ J

 

7 X' t. } C+ f' ]9 Z0 [

 

# \$ D: y9 g) T( ?

 

/ |' Z! v, t& y# v+ `: o" h! e

3520000

d& Z( [: X6 i* s

832000

' u8 s. i g9 y( O0 [8 u8 f) i, b+ k

29300

1 |$ m7 ^. p) Q; F8 f$ |) q

ISO Class 9

9 X, u& k* h7 Z% j- {& A

 

+ P" `" M, z( c' X3 ]& s! f

 

. z; k' a( _7 @

 

, B, F0 v3 }% Y& }1 d3 S7 p

35200000

- O$ t% _/ U) y9 @% K/ n1 |; U5 [

8320000

8 e! A6 d6 j" a0 S) L/ H

293000

- O: r# D, u* c3 S) |- w, U

  表二B不同产业/产品的关键粒径

$ L: K8 q& s( s P! o' o' `9 f
9 I: ?$ \/ g$ {- S. N( _ , M9 Q, K9 L0 ^- o) J9 Z" n* K3 H6 Y" {- f7 F% Q" N$ d) U' s0 v- Z' ^( h( `( C2 m: }+ T: {" X9 _- A5 j2 M; B& N& _0 o# r, W4 l9 b' c- A: _3 U1 d) U {5 i) z r7 ?' U0 }* J# S2 P* [' V0 l% F: O; e! s: G8 E! F, |2 v+ P2 K" ^7 y9 E- x: n* `$ r7 G% ~1 a" T8 a/ A/ F) p( i( _. r: W" P6 U% j+ `4 a9 D9 t' N2 e s3 W0 I/ c. d0 p2 j0 G* w& u* m) v' [, g) u- O3 r# w/ \2 X* e% a4 X! z) b5 T1 F* [, E' K0 \. e$ Q+ u2 j) s/ K; k' m( Q" `4 t: n* q% z2 q9 [. D' x* a t# ?+ t" M1 D+ b- V0 V( ~; q9 h3 C2 `9 F1 S t/ m% {8 W: {, C- e0 W9 `8 U$ k+ t; ~# h5 M6 u# J$ S- m6 S: x( i3 B/ I, s7 [& H1 H6 _1 ?% T4 g4 z/ } V' v" `1 q! H7 r8 A+ l q- k0 d- O; e' N+ Y* V$ Z) ]" U& q* x# i- i9 A- A8 q9 H+ M: }. l. z- D0 p; L6 q# Z4 C @" t, R
; V: Y* K ^1 h H. p& C

产业/产品

6 ^- t; |3 X% L1 S# x

关键粒径

, G, Y' t( H- R1 }) ` R% C

精 密机 械

4 C! w4 g6 j! X

1~100μm

( S3 v! e" f: u: u$ v$ M4 D

半导体

7 `4 T' |8 r6 J

5~50μm

; {2 n; }7 x) K: Y. o

移植

" t/ K) h4 u5 K3 ^

5~20μm

' s; ?3 B. N: Q ^; r; |- D

涂漆抛光技术

. r) Q$ u& Y8 m) u. k9 h* o

5~10μm

; G8 o+ H- e* @% P2 k( L; ^6 S

制 药技 术

( \; u9 L c5 b2 S: m/ C

5~10μm

- ^! n, ]$ O7 Z. P* z

微 型 继电器

) X& w3 `5 x7 ^1 t& `. c

0.5~25μm

7 [* n% d# H" b _# k

微 系 统技术

/ |) S' a) d/ ~* o) q0 L! X

0.5~5μm

5 L; A! f, R! M. [

光 学部 件

8 X7 f+ a" h4 V+ |* e f" l8 d

0.3~20μm

3 Z6 I; f1 ^' [ r7 g

微电子

. }: h# Y3 p& g: N( A% C; x1 n; [

0.03~0.5μm

, `4 | r$ |" T. r

医药厂房洁净室关键技术主要在于控制尘埃和微生物,作为污染物质,微生物是医药厂房洁净室环境控制的重中之重。医药厂房洁净区的设备、管道内积聚的污染物质,可以直接污染药品,却毫不影响洁净度检测,所以我们说:GMP需要空气净化技术,而空气净化技术不代表GMP!洁净度等级不适用于表征悬浮粒子的物理性、化学性、放射性和生命性。不熟悉药品生产工艺和过程,不了解造成污染的原因和污染物质积聚的场所,不掌握清除污染物质的方法和评价标准,以为洁净度满足要求的洁净室就能生产出高质量药品是GMP认识上的一大误区。

8 J0 F( j2 M( P; o* J$ x6 z4 B

经过本人对东北地区多家医药厂房(已投产)洁净区环境情况的调查了解,GMP技术改造医药厂房工程普遍存在以下两种情况:

1 n- _( e7 r6 e' Z

(一)正由于存在主观认识上的误区,在污染控制过程中的洁净技术应用不利,最终出现了有的药厂投入巨资改造后,药品质量并未明显提高。

3 ~; d4 y# G, G* M9 A, |5 ?

医药洁净生产厂房的设计、施工、厂房内设备设施的制造、安装,生产用原辅物料、包装材料质量、人净物净设施控制程序执行不利等都会影响产品质量。

e9 E+ `0 {) \9 Z0 }/ d3 n: n/ J

本人经过分析认为:施工方面影响产品质量的原因是过程控制环节有问题,在安装施工过程中留有隐患,有如下具体表现:

5 |$ X0 V7 _) O

①净化空调系统风道内壁不干净、连接不严密、漏风率过大;

4 d% A4 Y2 y1 V4 R' x1 A) }! e

②彩钢板围护结构不严密,洁净室与技术夹层(吊顶)的密封措施不当、密闭门不密闭;

! d2 N# D/ z3 V( D+ H. j$ d1 w

③装饰型材及工艺管线在洁净室形成了死角、积尘;

- i% E9 O2 O( N8 Q8 N) i0 J; l$ w

④个别位置未按照设计要求施工,无法满足相关要求规定;

: q: h% E- p* ]

⑤所用密封胶质量不过关、易脱落、变质;

# Z+ ^7 I7 y: {7 |

⑥回、排风彩钢板夹道相通,粉尘从排风到进入回风道; % J9 @6 M/ [; I1 m  ⑦工艺纯化水、注射水等不锈钢卫生管道焊接时内壁焊缝未成型; ! o) n: ^( X) w. C: L D  ⑧风道止回阀动作失灵,空气倒灌造成污染;3 A' K j" Q0 s3 w) Q   ⑨排水系统安装质量不过关、管架、附件易积尘;# y+ u: m# M( v, O" X5 O! G/ Q   ⑩洁净室压差整定不合格,未能满足生产工艺要求。/ [3 B/ N" E9 ?$ n8 {% r   所以,针对每个专业安装工程公司,洁净室工程施工无论洁净度的高还是低,都必须为药厂作好工程部分对污染源进入前的过程控制。

: p( x# ^" Q7 [% ^, ]3 j

(二)大多数药厂洁净室HVAC系统节能效果差,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

- F6 ^$ Z6 V, z0 a

比如有些药厂净化车间在空态或静态测试洁净度时,勉强合格,在动态测试(生产)条件下,洁净度不理想;所以不得不把空调机组变频调速设置为Max工况(如此换气次数即达到相对最大值),以使室内洁净度达到要求。换气次数的增加势必会导致能耗加大,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

+ A) ?4 A7 Z2 a6 d8 \+ m, I

有的药厂投资人为节约初投资而擅自降低设计要求的条件,购置价格相对低廉的设备如冷水机组、水泵、风机和药机,这些看似便宜的设备效率低,悄悄的把能量白白消耗掉,使投资人得不偿失。

$ b6 a0 Y( D5 O) L/ c/ k

有些工艺设备运行时排风量波动大,而没有采用变风量排风机来实现节能;更有较多排风废热未被回收。

" s; T: S! k Z; z

市场状况及国家产业政策方向

' W% H3 i/ N1 e8 x! A9 E

  近年来我国医药行业蓬勃发展,2002年销售产值为2300亿元,每年为洁净室技术提供约45亿元的市场份额;药品生产企业的GMP认证为“洁净技术”创造了30亿元的商机;创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。医药和医疗卫生已成为洁净室市场的热点。

+ N, u/ X+ {" Q: Y

GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是根据《中华人民共和国药品管理法》的规定而制定,是药品生产质量的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,《药品生产质量管理规范》的要求是强制性的。对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。

$ s2 ^: H4 e9 q4 c* k

说到底GMP就是对生产全过程的污染控制,从而确保生产的每一支针、每一颗药都安全有效,质量万无一失。

* C+ Q ?2 ~7 [) V( c2 R

全国现有6731家重新换取《药品生产企业许可证》的企业,除去药品用胶囊、医用氧气、中药饮片、体内外诊断试剂、药物辅料等剂型的生产企业暂未列入GMP认证范围,已列入GMP认证范围的药品生产企业共5146家。

2 c* n7 A* J/ _% `6 d. {

国家药品监督管理局要求原料药和制剂生产在2004年6月30日前必须达到GMP要求,尚有3000家左右的药品生产企业需要全部或部分通过GMP认证,医药厂房需要进行技术改造(或新建)以使洁净室生产环境满足GMP认证的要求,将需要300亿元人民币的投入。近两年来,是技术改造投资高峰,每年为洁净室技术提供了30亿元人民币的市场份额。

7 ~8 {2 }0 Q$ x$ H2 S) f% z

“十五”期间全国将投入600亿元,创建8个大型医药产业园区:

+ t) ?: B0 F K( ~6 `

· 上海张江“医药研发基地”

! z, y* R1 ]5 g+ X$ J+ v- X

· 杭州余杭“生物医药产业基地”

4 i2 |8 A; T- Q% Q K7 _" L2 Q) d

· 无锡中华生命谷

8 p" o/ }. h' L" D9 `

· 湖北葛店“中华药谷”

1 k! s: I- D& X& Y, E; j# B2 X

· 天津“现代中药产业园”

& S' E$ _" f5 |" ?0 G

· 海南岛“海口药谷”

; N! Q& q/ Y/ \1 R

· 哈尔滨“北方药都——哈药工业园”

3 H' ?- W* e# R# W" ?' w) Z

· 北京生物医药创新基地——“一城”、“一园”、“一谷”、“一带”

/ j0 @9 g4 M: t5 n# X

  创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。

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