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发表于 2004-10-21 13:45 |只看该作者 |倒序浏览

医药厂房洁净技术发展现状及对策

, A/ q8 J1 y* R0 V5 b+ o

自从约30年前,第一批洁净室用于制药医疗以来,洁净室技术百花齐放,洁净生产环境五彩缤纷。洁净室技术的典型应用始于制药、医疗、化工、精密机械制造、光学、微电子,当今洁净室已改头换面,并延伸应用到越来越多新兴的工业部门,如微系统技术、生物技术、食品、化妆品等领域也逐渐开始应用各种级别的洁净室。

( e2 ]3 g6 L9 q4 F$ H, [

近年来我国医药行业蓬勃发展;GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是当今国际制药行业公认的药品生产和质量管理的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。药品生产企业的GMP认证为净化安装工程公司创造了商机!

9 @* S. B6 k- V4 G: ~( p5 P r# B

医药厂房洁净室系统组成

4 i' i- Z6 C) g5 k2 v
, T# C5 s4 P6 I3 V8 k6 V1 p( L+ G y0 @9 W8 W) T9 k' `+ M" J+ R1 F* o8 u) b) t( ]) ]7 m7 M8 t: V# `. ~/ n* W2 E0 {! a G# C. c" `- T. f R1 T1 G! o4 U) ]* f, p- i+ A# R2 O' z6 W. ]; `# b8 g! B( N4 @. a. `0 M+ I" j; Z* l" p6 R- J4 ?. ~% S3 u9 I" ]# z$ L; J7 @( ?, D/ c2 h5 d6 ?' ]* [5 \) r/ v1 ~" o5 T( B) B- }' S" p' r% T+ X1 w+ [2 D, `$ }6 ^4 r+ g+ F7 a, u4 u0 D; v& p4 O1 \$ o8 b' @8 m% _3 A' H+ W" K, d, T+ B8 t% [! q5 X3 g3 O1 l8 I r( {; E$ ?: N1 G8 L( E3 G; |" t0 v4 N v+ y1 s+ y0 b3 C2 I( Z8 s: I- F5 N& E' ^; a& O0 n5 z2 K7 ?4 y- W) \" a& \& j3 f% r$ i: {: k* A5 V) a$ w- [5 A* {9 r/ w) }* z* Z" {9 w! t& E+ l2 G
4 F4 A; U+ F! f7 X9 l# R8 {" t

( x7 v" [3 T* P' V9 `

建筑结构(室内装修含彩钢板围护、自流坪地面等)

# e7 j! X. x: F1 k" F

; C& Y- z5 ~) Z$ }* P6 f. h

净化空调系统

! T! @) j* N4 [0 T

: }; h- G' K7 F2 ^/ L, H1 y2 e u5 b; G

排风除尘系统

# X; t- A; I: S4 R+ h/ w6 `

% | o3 I# X# d

公用动力系统

6 U1 {1 w" \$ E

6 o9 W4 c, I" s4 [- u$ G8 T# Q

制药工艺设备及工艺管道系统

# {7 t7 I1 D) F4 ^, P$ g/ u

& J: n& x) j' T: C5 t0 a

电气照明系统

8 I- R& S, [# F5 _

2 K0 E$ K: u( R/ H A8 A' x( E

通信消防安全设施系统

" @9 `. @% S( M6 C0 F

- H& a! |6 h: ]

环境控制设施系统

$ j- [# n* l3 B& x) y" q. T

关键技术——污染控制技术(医药洁净技术的永恒主题)

2 w' M, u: ~- t. ?

医药厂房工程洁净室生产环境大多均为传统洁净室(conventional cleanroom)与模块式洁净室系统(modular cleanroom system)、洁净工作台和洁净柜 (clean work benches and clean cabins)及微环境技术(mini-environment technology)三种形式结合较少。

& q4 h( u* K( w

由于医药厂房工程洁净室的洁净度等级要求不是很高,多数为ISO Class 7~ISO Class8级(换气次数平均在20~30次/h,主要控制粒径为≥5μm粒子),ISO Class5级的比例很少,对静电、微振控制要求不高,所以难免有人会认为药厂洁净室施工难度不大,其实不然。 5 ?1 p7 h& ~3 t) E, q# f. |4 X表二A洁净室及洁净区空气中悬浮粒子洁净度等级

6 d6 d4 ~3 ~4 i0 d0 o
# G" s/ Z) k* q* H7 I% A, t& n! J2 F# F' D- A2 K; g! c& \8 ^+ W" M2 n5 p b- m. v# T' r/ b: I1 G3 e* V. j. @# U% A! H0 Z* M- f9 H- q4 Z2 m9 k) h# @1 U# n4 H, Q8 d$ L$ t; t" m: q2 E) t, T, [3 G7 m0 U T! E# C; b+ L, ` V% @4 V9 K8 m5 A7 z( a4 b8 d( p/ ^1 \5 j! Z1 q" S F4 Z' L( _6 x9 b# D! i/ u2 `0 E% [( v$ Q! j2 q) L; \5 ]4 V4 X2 ?, |6 t0 H) g8 r; _& Z9 O' r+ A- w e& K4 K/ ^6 n. Y) G. w3 j* ~' e8 ~2 T) z x; y" D! z5 J* f5 l5 B3 w9 n. {' [. y7 y+ d0 [7 D0 _" A$ B' F! E. Y+ j5 V' q- ?2 d/ A) Z. z) E& c& l9 X; L( z5 q1 w! h5 ~7 A( k" D, B* `' ]6 Q. B' q6 ]. r/ k0 q# N4 @! _+ t0 y" O! H6 x- S1 z5 p L, T6 a% u8 @6 i; c5 g- f+ ?: z1 }; s6 I5 G4 x D6 l: M) c, k; u' z+ U) g+ f6 N3 }5 D6 Q: v& N/ ?* c- @$ N0 p0 _" q# |# ?( ?' s9 A+ v, q8 t7 P% y7 @3 a$ _% l/ j0 q n/ z3 q1 P+ H1 j: |' T: B3 U! c: u2 G4 P. B& \6 e7 F9 {7 r$ W8 r' g9 F! g) d* b% w. v5 [: x8 \; q) F1 L' G2 A0 @3 ]! R! w: [; \9 k8 A8 D: }& A" j1 }$ S- n, L9 t" \1 r K- o7 ?1 N9 s1 n t! U) z; i1 ]3 p5 b& r, |* L' w9 {7 C; o4 ]$ @ d" T% u! ?# d7 y; u! i! y/ S0 l1 n; `7 Q1 I7 d% }8 ^( h" E* e' T3 \+ \- d5 m: K" _) K0 E" w+ I5 j9 J6 u9 y) t r' g0 @( I7 b% ?" y# e7 U2 n: G$ G$ z3 r6 h; M2 k- z- Q: n* `; c4 X% E# D- U4 S9 R) v9 N: M) y& T6 r, u' k3 s- k9 T0 A1 e s+ x5 y% n/ \' ]7 V) |) Z& U5 Z0 w+ Q& g- |( e. \$ l1 \$ b' ]* v5 ]' N9 g! F4 [0 ]/ c8 r+ U" k) ^' H7 P! m3 y* S. E8 w X4 Z9 f/ L2 D! n1 N6 @- U, r, e: W% v! o. n$ a1 p: b) |% ^/ x6 o1 x D: b2 K$ ?) L5 G& y5 C! F& {. \( O& V2 Q5 i7 n p' Z4 r0 \( g' \, g9 s w! k4 S6 }& R/ E2 T/ t5 `0 m: m1 g* Y% n. d' B7 Y* U: o8 V" T; L2 x7 }, \3 E$ ~: C6 `1 ?% ~$ @8 P- q& w9 D) T& G& |! Y% z- d4 e1 K% E3 P5 I: k$ p* T% U J! Z6 H8 l/ `0 N$ v/ P0 G, [8 j6 c1 L6 A( F' \ C, ~+ n. V- G1 c! ]+ x- F1 r0 X7 ]! F4 t' ^* h1 g0 D6 ` W2 f+ S3 e0 m' m5 Z; B3 M4 k% G ]" |/ w2 j. x ^- S5 \8 r0 _- d! O$ B- N- O1 q* |- D/ S7 m- [ P4 I. x2 ~ v1 J8 c( P" b$ `' T' y/ m
7 C9 r) [+ |. f3 Z% _

空气洁净度等级(N)

9 `! W- W" O# P3 ^# L$ X% e

大于或等于表中粒径的最大浓度限值(pc/m3

6 X8 T2 _3 a# Y c, E2 U

0.1μm

& w& I$ M5 m; z4 j8 i2 c5 L) o

0.2μm

/ a% k' w1 |6 T+ f& \. O

0.3μm

& O6 z& W: a6 j! [- T8 s t: c$ Z

0.5μm

& l0 D' r) o+ b

1μm

7 f! M% y" T+ I/ h) W

5μm

& g7 l# f/ y S. [" k

ISO Class 1

" g& L$ S9 m: d" @& C3 k

10

3 `& E- K$ p6 N- E! I2 y

2

% |0 ]& |% j" G8 T: U' H, S5 K

 

0 X4 `# G9 s5 H

 

6 M6 f6 N, v' K; J

 

! b8 z) l/ r- N" t5 E- O- D( i# q

 

+ G) k2 ]; H4 U

ISO Class 2

" u1 v& a7 L L

100

" }, D. h0 g0 h: f" Y

24

! v7 c) F! v5 x3 c* _

10

# y# x/ t) y' U. E( U4 f

4

o% x- q, J/ v$ I) l

 

; j4 {) Q6 A4 ^# I

 

7 F% z: c* ~* l2 W/ a! n* B" ]

ISO Class 3

) M. k3 p1 ~* k. y0 S

1000

# w8 t7 ^3 N+ Y% ^3 B- y9 E

237

1 d5 z6 T3 J! s: z$ P9 i9 L

102

5 B+ I* M" |5 K* A* N

35

- l. X* _. k( J0 n7 I

8

I- s9 Z- @( g O5 j" y' ~4 _, t) ^

 

9 o' P! t9 Z7 E( |1 P

ISO Class 4

/ g2 ?( Q/ Q4 Z P; J' X

10000

. }$ \2 l. {# c$ Y, w* B

2370

( u" b% u. ]$ B+ R+ ]

1020

# F9 ^! R g( N. M: D! r/ l

352

7 f9 H9 h7 m- a/ F3 i

83

8 D- k0 m. F; ~8 C! N

 

! R, ?0 F; K5 ~) l* G

ISO Class 5

2 `. i: C, ~: X; L

100000

8 s5 R0 {; Q- K# g: j9 C/ A! b0 C

23700

3 `0 }3 I7 }! T0 [# E- V

10200

* U1 q: G; ]2 M4 | m7 g! L

3520

* @$ J% t! \8 F

832

3 F2 @5 F# [" P% j0 Q; R

29

) W, K. S8 {$ a6 _1 k4 O. H* O1 v# D

ISO Class 6

, I9 y& C2 |1 F' a) q) {, Y

1000000

& Y. X; V/ c. v* x4 }9 \

237000

& x8 v: Y' R1 m, v. |! E

102000

& h0 e9 v$ n* k3 f2 I3 f7 _: c; r

35200

. ]2 X. g$ r- ]3 z2 z" k7 S+ e

8320

. N( ?5 A( y# F( x- ]/ u/ |

293

% H7 E. G5 }& h- H w( I

ISO Class 7

* |2 h& }' [+ X- ` P% w$ k

 

* G3 U7 K# u; p) i1 M/ [

 

) A5 V% M% S& t

 

) J8 V5 L \) L2 F

352000

7 ?& D0 t6 t9 n3 W% n: s

83200

) \# q- b$ U9 B

2930

" r$ {& q& ~0 ?8 N8 L

ISO Class 8

! \. p6 _ E1 ?) u, L

 

6 @( F6 e9 ~8 U: `

 

; S, I! x7 u+ _3 H4 i

 

: s4 G8 a( a& ?! Q

3520000

& t* u, s+ I- U/ S7 V

832000

! k0 l8 V/ W0 z; e: I( o

29300

0 L* `8 {7 m6 J$ z' x

ISO Class 9

" D% f/ H% D4 U0 Y$ a

 

1 g y; r0 B& P- P

 

& y- R5 P* M- s- j! V

 

6 ]. ?7 v( |# D6 S& ~# T. l

35200000

9 ]# h/ a, }/ m! Z- C! U( k

8320000

/ \: B" [0 l3 X; x$ }8 N

293000

0 S8 o2 q) G; E6 G+ q

  表二B不同产业/产品的关键粒径

% ]' j' I3 g: v* t- F% S" E
+ ]' c& d) j; R0 K% c; N, I/ \ , j- e Q" ^. H4 f& x0 t' ~5 u0 P& T3 b( q# p3 _6 O h5 S; q- s4 C& S* n0 T. ]1 ^! @% G+ d% u- q* V9 X6 H1 s% r7 H( E% {2 Q3 s- V: M3 ?+ o# P, `8 @. c: Y. c- S' q+ C Q# c2 p2 G V; \% b3 G9 V! n% z- P1 O& ?) t) ]( z1 N2 Z* {. Q; ^; d2 Z! {4 p4 E) W, o- ?0 [% ]- H: B9 Z7 E; M, V0 L, \* B2 r. l8 h1 N( r+ |$ ]& h' y2 i7 j! [2 a) }) r P$ j3 ^9 S0 O% } M& o$ V; p. H7 i6 I. h. Y1 a% w1 Y0 x3 l- A' W& y- Y+ Y& m# \0 ^7 V0 ]3 ^, g S: r; l8 N8 k p; b3 Z( V5 p0 s0 e; M% r+ D; F+ y8 |, X% T# _" v7 f7 r) U: {! ]8 H8 ?/ O+ w1 J6 J; n9 @( r2 P8 t5 H6 P8 ?# y; a9 A% j: F# |7 I& x* V+ y6 \' }* h6 `: P @4 k2 O1 U! s: ^- d0 d1 L- e3 H) F0 p6 q: P2 q( r3 g9 j& ~* ~7 h% ?6 V" i8 G# x- K B+ T1 e; l. |8 m8 F& B8 C8 O& h ^& ]3 ~5 S/ c9 ]& c4 n
2 r+ G6 y3 D' G- ^1 J

产业/产品

) x% O; H" X9 M- }! A+ z( c% M, A

关键粒径

) r* ]& ^. z K# D; k

精 密机 械

% m+ D+ I8 r; w; W9 S! g" f" O4 F1 r. F

1~100μm

A' a' }0 g, |

半导体

+ O; |7 L2 R+ W1 ]" \ D& Z ?

5~50μm

. C; t9 v7 x! h2 \

移植

; C; ]$ ^. Z+ v u# m

5~20μm

0 L; ]9 y6 W' c1 J/ d0 q

涂漆抛光技术

/ f' n, r$ T- [4 |

5~10μm

1 m$ k# M$ p% t0 T) c& j- s

制 药技 术

* k- x% c0 h: ]/ ]9 B

5~10μm

% K2 j- ^& M( a, F3 y8 d% W# e" n

微 型 继电器

! J1 @# Z5 r# b) M1 ^- H: n

0.5~25μm

: G- _. s4 s5 f. I& K. x0 ]& u

微 系 统技术

( q/ @* ^8 G$ U

0.5~5μm

2 u( A3 i6 e4 }5 u2 Q6 B+ C

光 学部 件

8 O, b2 ~+ J/ F0 ^# {

0.3~20μm

6 J; f k* o- X& {: J6 C

微电子

0 ~1 W2 t0 R. M6 Q

0.03~0.5μm

) \' Y: b2 G- o$ [

医药厂房洁净室关键技术主要在于控制尘埃和微生物,作为污染物质,微生物是医药厂房洁净室环境控制的重中之重。医药厂房洁净区的设备、管道内积聚的污染物质,可以直接污染药品,却毫不影响洁净度检测,所以我们说:GMP需要空气净化技术,而空气净化技术不代表GMP!洁净度等级不适用于表征悬浮粒子的物理性、化学性、放射性和生命性。不熟悉药品生产工艺和过程,不了解造成污染的原因和污染物质积聚的场所,不掌握清除污染物质的方法和评价标准,以为洁净度满足要求的洁净室就能生产出高质量药品是GMP认识上的一大误区。

4 m0 G0 s# |3 m9 o# b/ D6 f

经过本人对东北地区多家医药厂房(已投产)洁净区环境情况的调查了解,GMP技术改造医药厂房工程普遍存在以下两种情况:

' r5 x$ m. N/ h6 {% `) N4 ?

(一)正由于存在主观认识上的误区,在污染控制过程中的洁净技术应用不利,最终出现了有的药厂投入巨资改造后,药品质量并未明显提高。

# f+ @: o* i, ~; A5 b

医药洁净生产厂房的设计、施工、厂房内设备设施的制造、安装,生产用原辅物料、包装材料质量、人净物净设施控制程序执行不利等都会影响产品质量。

: U' l( p- u/ x v: m3 {, R

本人经过分析认为:施工方面影响产品质量的原因是过程控制环节有问题,在安装施工过程中留有隐患,有如下具体表现:

# B, ^; t( g* l3 e, t

①净化空调系统风道内壁不干净、连接不严密、漏风率过大;

% Z+ t# Z0 d6 L# t2 P

②彩钢板围护结构不严密,洁净室与技术夹层(吊顶)的密封措施不当、密闭门不密闭;

7 n* H+ X4 s8 \* n/ W8 I

③装饰型材及工艺管线在洁净室形成了死角、积尘;

- o8 z3 Y$ `/ N% {" |2 C

④个别位置未按照设计要求施工,无法满足相关要求规定;

8 ?4 f5 L! `) L) J4 H

⑤所用密封胶质量不过关、易脱落、变质;

1 L; u( U' a* t

⑥回、排风彩钢板夹道相通,粉尘从排风到进入回风道;# \9 Q! F% y" p! l+ E5 x. S8 R4 F; V   ⑦工艺纯化水、注射水等不锈钢卫生管道焊接时内壁焊缝未成型;: H- k0 {+ j" z. |   ⑧风道止回阀动作失灵,空气倒灌造成污染; # J6 W/ R0 Z* r2 z  ⑨排水系统安装质量不过关、管架、附件易积尘; - R( w5 i* @# l D* I  ⑩洁净室压差整定不合格,未能满足生产工艺要求。$ a5 J1 d1 N! i! I/ y   所以,针对每个专业安装工程公司,洁净室工程施工无论洁净度的高还是低,都必须为药厂作好工程部分对污染源进入前的过程控制。

1 ?. {2 L! N/ i) W

(二)大多数药厂洁净室HVAC系统节能效果差,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

1 F6 w1 [7 P% x( S& r

比如有些药厂净化车间在空态或静态测试洁净度时,勉强合格,在动态测试(生产)条件下,洁净度不理想;所以不得不把空调机组变频调速设置为Max工况(如此换气次数即达到相对最大值),以使室内洁净度达到要求。换气次数的增加势必会导致能耗加大,形成不必要的支出,加大了药品的生产成本。

5 ]. v4 v- ~8 }5 q* Q

有的药厂投资人为节约初投资而擅自降低设计要求的条件,购置价格相对低廉的设备如冷水机组、水泵、风机和药机,这些看似便宜的设备效率低,悄悄的把能量白白消耗掉,使投资人得不偿失。

2 E9 s$ q9 r' C @9 r

有些工艺设备运行时排风量波动大,而没有采用变风量排风机来实现节能;更有较多排风废热未被回收。

0 s% M- ~! Q4 k

市场状况及国家产业政策方向

! [# ]/ m5 i; C* o- o. I [& _

  近年来我国医药行业蓬勃发展,2002年销售产值为2300亿元,每年为洁净室技术提供约45亿元的市场份额;药品生产企业的GMP认证为“洁净技术”创造了30亿元的商机;创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。医药和医疗卫生已成为洁净室市场的热点。

/ u) q7 P" x; A1 F: }3 v* G

GMP(Good Manufacturing Practice)即《药品生产质量管理规范》是根据《中华人民共和国药品管理法》的规定而制定,是药品生产质量的基本准则。体现了对药品生产全过程的控制要求,《药品生产质量管理规范》的要求是强制性的。对生产中影响质量的主要因素提出了基本控制要求,其中“生产环境”要靠洁净技术来保证。

5 o% e. `! \' G. o) B3 a

说到底GMP就是对生产全过程的污染控制,从而确保生产的每一支针、每一颗药都安全有效,质量万无一失。

3 M& e4 ?8 y0 Q) j6 K7 z

全国现有6731家重新换取《药品生产企业许可证》的企业,除去药品用胶囊、医用氧气、中药饮片、体内外诊断试剂、药物辅料等剂型的生产企业暂未列入GMP认证范围,已列入GMP认证范围的药品生产企业共5146家。

% ^. h2 D9 g" W0 i9 m. \

国家药品监督管理局要求原料药和制剂生产在2004年6月30日前必须达到GMP要求,尚有3000家左右的药品生产企业需要全部或部分通过GMP认证,医药厂房需要进行技术改造(或新建)以使洁净室生产环境满足GMP认证的要求,将需要300亿元人民币的投入。近两年来,是技术改造投资高峰,每年为洁净室技术提供了30亿元人民币的市场份额。

3 n2 r, Q# F$ D# J! q. [

“十五”期间全国将投入600亿元,创建8个大型医药产业园区:

% o. @" K4 @! J. C

· 上海张江“医药研发基地”

4 p0 W; D! w$ ~0 i3 `3 ]( ?% y

· 杭州余杭“生物医药产业基地”

) q0 {+ C5 h% H2 `6 V

· 无锡中华生命谷

, \1 R' B; n3 y C" |0 L

· 湖北葛店“中华药谷”

% k7 W( q( k7 S( O1 n( r

· 天津“现代中药产业园”

- [0 y+ i+ ~# p9 S

· 海南岛“海口药谷”

: F3 T) E2 s1 D) n' S5 q

· 哈尔滨“北方药都——哈药工业园”

& s7 F0 e) r; |

· 北京生物医药创新基地——“一城”、“一园”、“一谷”、“一带”

3 e) o* w" Q. u; l

  创建医药产业园区每年将有15亿元的洁净室技术市场份额。

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